Fotoemisní systém pro studium povrchové elektronové struktury kvantových materiálů na atomové úrovni

Předmět zakázky

Předmětem zakázky je dodání fotoelektronového systému založeného na principu mikroskopie hybnosti za účelem studia povrchu kvantových materiálů v ultravysokém vakuu (UHV) se základním tlakem ≤ 3.0×10-10 mbar. Přístroj je určený na experimentální výzkum vlivu fotoemisních geometrií a k dichroickým studiím zkoumajícím vliv polarizace světla během experimentu. Systém musí mít prostorové rozlišení ≤ 38 nm spolu s energetickým rozlišením ≤ 30 meV. Před instalací musí být provedena vibrační studie v laboratořích, aby se zajistilo řádné odizolování vibrací a systém byl náležitě vybaven tlumiči. Dodávka přístroje je dopravy, instalace a zaškolení obsluhy.