System for electron beam lithography
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.Vypsáno 19. 6. 2024
Řízení bylo zrušeno.
Zadavatel zrušil řízení.
ZrušenaVypsáno 19. 6. 2024
po lhůtě(do 30. 7. 2024 v 11:00)1 mil. EURSpeciální optické nástroje
vypsánolhůta
Lhůta uplynula před 675 dní
Předmět zakázky
Předmětem veřejné zakázky je dodávka systému pro vytváření libovolných tvarů s rozlišením v řádu alespoň 20 nm pomocí fokusovaného svazku elektronů na povrchu pokrytém elektronově citlivým filmem. Systém musí dále umožňovat selektivní odstranění exponovaných nebo neexponovaných oblastí povrchu.
Načítáme seznam příloh…